三氟化氯（CIF3）是一種用于清洗化學氣相沉積腔室及其管道清洗的重要的電子特氣。與其他含氟氣體（如NF3、C2F6和CF4）不同，三氟化氯在室溫下就能夠與半導體材料進行反應，因此它可以清洗冷壁CVD腔室。用三氟Chemicalbook化氯進行清洗是一種化學刻蝕過程，腔室的熱量足以使其分解并與半導體材料反應，不存在等離子體那樣的高能離子轟擊過程，對設備的損壞可以降低到最低限度。相比等離子裂解制氟工藝，三氟化氯清洗工藝簡單而高效，且清洗效果更好。

  能夠超越氧氣的氧化能力導致對含氧材料的腐蝕性，這些材料通常被認為不可燃的。在一工業意外中，900kg的ClF3泄漏把自身燒通30厘米的混凝土和90厘米的礫石。任何和三氟化氯接觸的設備，必須仔細挑選和清潔，因為任何污染可以點燃接觸物。三氟化氯平時是裝在金屬容器里面的，這幾乎算是Chemicalbook唯一能暫時控制它的方法了，只要預先經過處理形成了金屬氟化物保護層，它在一些常見金屬制成的容器里面還可以保持安穩。因為三氟化氯活潑的化學性質，任何接觸它的設備都必須經過仔細的清潔以及保證氣密性。不幸中的萬幸，它會立刻和容器內壁反應生成不再參與反應的氟化物，從而我們可以方便地貯存。

  三氟化氯（ClF3）是一種很強氧化劑和氟化劑。它能大多數有機和無機材料甚至塑料反應，可以使許多材料不接觸火源就燃燒。這些反應通常很劇烈，在某些情況下甚至會爆炸。它與一些金屬反應Chemicalbook生成氯化物和氟化物，與磷反應生成三氯化磷和五氟化磷，而與硫反應生成二氯化硫和四氟化硫。ClF3也與水劇烈反應，水解產生有毒物質，例如氟化氫。H2S在室溫下與ClF3混合就會爆炸。