專利摘要

本發明公開了一種八氟丙烷的制備方法，步驟依次包括：

（1）氟氫化鉀經電解后得到氟氣混合氣，并依次進行除塵、冷凝、吸附處理，純化為原料氟氣；

（2）將所述原料氟氣加壓后與惰性氣體均勻混合得到混合氣；

（3）將所述混合氣通入裝有二氟化鈷的反應器內反應得到三氧化鈷；

（4）反應完成后，對所述反應器及相關管路管件進行吹掃及抽真空置換處理；

（5）將六氟丙烯通入反應器內與所述三氟化鈷反應得到含有雜質的八氟丙烷；

（6）對八氟丙烷進行冷卻、吸附處理；將八氟丙烷通過壓縮機進入精餾塔進行精餾處理。采用本發明，可降低雜質對反應器的腐蝕，抑制六氟丙烯裂解、自聚、加成等不良副反應，制備高純度的八氟丙烷。

技術領域

本發明涉及化工領域，尤其涉及一種八氟丙烷的制備方法。

背景技術

八氟丙烷，常用作制備半導體器件工藝中的蝕刻或清洗氣體。現有關于使用六氟丙烯作為原料直接制備八氟丙烷的方法有多種:日本專利JP-B-62-61572指出，在六氟丙烯和氟氣之間進行直接氟化反應制備八氟丙烷；日本專利JP-B-1-45455指出，在催化劑存在下，使六氟丙烯與氟反應制備八氟丙烷；日本專利JP-B-62-54777指出，將六氟丙烯與高級(High-Order)金屬氟化物反應制備八氟丙烷；日本專利JP-B-62-61682指出，在使用惰性氣體和反應產物氣體稀釋的情況下，使六氟丙烯與氟氣反應制備八氟丙烷；日本專利JP-B-62-61115指出，在氟化氫中使六氟丙烯電解氟化以制備八氟丙烷。