一氟甲烷(又稱hfc-41，分子式為ch3f)是一種在常溫常壓下無毒、可液化的氣體。由于其具有較低的溫室效應潛值和零臭氧損耗潛值，是一種低溫熱泵的理想工質之一；同時一氟甲烷也廣泛應用于半導體工業，作為等離子蝕刻材料用于蝕刻硅化合物的薄膜。目前制備一氟甲烷的方法主要有以下幾種：

一、氣相加氫脫氯法

以一氟二氯甲烷或一氟一氯甲烷為原料，在催化劑的作用下與氫氣發生加氫脫氯反應。

二、氣相氟化法

cn100562510c公開了一種氟甲烷的制備方法，其以氯甲烷為原料和氟化氫在催化劑存在下進行反應，催化劑為三價氧化鉻和in、zn、ni、co、mg和al中的至少一種組成，氣相氟化反應生成hfc-41。

    三、其他方法

采用甲醇為原料，在復合氟化催化劑的作用下與氟化氫反應，生成一氟甲烷。